PHI X-tool是一款操作簡單,同時具備高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS獨有的掃描聚焦X-ray系統(tǒng),可通過單色化石英晶體叫X-ray直接聚焦至20μm。和傳統(tǒng)的XPS相比,不采用光闌進行選區(qū),極大的提高了XPS在200μm以下空間尺度的靈敏度。同時,不需要增加磁透鏡,即可得到卓越的靈敏度及優(yōu)秀的信噪比,即使磁性樣品,也可輕松應對。
卓越的操作性
- PHI X-tool軟件支持直觀的觸摸屏操作,所有XPS測定過程都可在觸摸屏上完成。用戶可以自由選擇手動操作模式和自動操作模式(自動定性、定量、分析及完成報告),操作者無論是否具有豐富的XPS操作經(jīng)驗,均能輕松應對。
自動參數(shù)設定、自動完成報告
- PHI X-tool具備自動對焦功能(Auto-Z),使分析位置處于X射線的焦平面上,得到zui優(yōu)的分析條件。其可實現(xiàn)中和參數(shù)的自動匹配,無論樣品的導電性如何,均可輕松應對。
- 自動定性:實現(xiàn)譜峰自動識別
- 自動定量:自動選定譜峰定量范圍
- 自動曲線擬合:可自動實現(xiàn)預定條件的曲線擬合
- 自動生成實驗報告
多方式樣品觀察
- 在XPS分析中,樣品觀察,特別是微區(qū)定位至關重要。PHI X-tool可通過以下三種方式進行樣品觀察:a. 進樣室高空間分辨率圖像;b. 實時CCD成像;c. 二次電子像(SXI)。利用這幾種方法觀察樣品,不論樣品大小,表面形貌如何均可輕松確定測試位置。
詳細的條件設定和直觀的操作
- 結(jié)合材料和目的,可詳細設定分析的條件。通過內(nèi)置元素周期表,可設定各光電子峰和俄歇峰。通過更改通過能、步長、積分時間設定窄譜掃描參數(shù)。對每個樣品可設置習慣的文件名和樣品名稱。
快速化學成像
- 采用掃描X射線和高靈敏度檢測器及非掃描模式,可實現(xiàn)快速成像分析。每個點都可以直接調(diào)取全部的譜數(shù)據(jù)。化學態(tài)成像的空間分辨率、靈敏度、能量分辨率與儀器主指標一致。
采用PHI獨有的先進硬件設計
- 微聚焦掃描X-ray源;
- 雙束中和系統(tǒng),低能離子束及低能電子束自動配合;
- 浮動離子槍,離子加速電壓條件范圍可達0~5kV
- Micro-Electronics 微電子, 電子封裝
- Polymer 高份子材料
- Tribology 摩擦學
- Magnetic 磁性材料, 硬盤, 藍光光盤
- Display Industries 顯示工業(yè)
- Graphene 石墨稀
- Catalysis 催化劑
- Energy related 能源產(chǎn)業(yè)
- Glass 玻璃
- Metal 金屬
- Ceramic 陶瓷
- Semi-conductors 半導體
- Bio-Medical 生醫(yī)科學
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