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成像分析

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成像/投影
在其最簡單的形式中,成像分析主要是利用顯微鏡方法來聚焦表面(包括光學(xué)和電子)。分析提供的信息會(huì)受到所使用的儀器能力的限制。在此分析類型中主要采用的分析技術(shù)是掃描式電子顯微鏡(SEM)。

元素、無機(jī)物或者分子種類的橫向分配(例如位置)可以使用以下方法來測量:

  • 電子束技術(shù):SEM,EDS和Auger
  • 離子束技術(shù):TOF-SIMS和FIB

這些方法提供了地圖或圖像來顯示不同種類元素的相對位置,相關(guān)的功能,缺陷,顆粒等的有用信息。

也可以使用其他的技術(shù)來獲得圖像:

  • Raman測量分子振動(dòng),并且提供有關(guān)官能基、碳類型和壓力/應(yīng)力的信息。
  • AFM提供表面粗糙的圖像、硬度和磁性成像。
  • XPS提供元素和化學(xué)映像。
  • 光學(xué)輪廓測定可以產(chǎn)生表面的三維成像,三維測量或特定功能的成像。

在一個(gè)規(guī)模較大的晶圓映像到300mm,LEXES可以用于映射摻雜、薄膜成分和雜質(zhì);XRR/XRF可以用于映像膜的厚度和密度;TXRF可以用于映像元素污染物。

主要分析技術(shù)

  • Auger
  • EDS
  • FIB
  • LEXES
  • SEM
  • TOF-SIMS
  • XRF
  • XRR

其他分析技術(shù)

  • AFM
  • Raman
  • XPS
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