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Apreo場發(fā)射掃描電子顯微鏡

Apreo 革命性的復(fù)合透鏡設(shè)計結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù),可產(chǎn)生前所未有的高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺,并且不會降低磁性樣品性能。

Apreo 受益于獨(dú)特的透鏡內(nèi)背散射探測,這種探測提供卓越的材料對比度,即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時也不例外。新型復(fù)合透鏡通過能量過濾進(jìn)一步提高了對比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾??蛇x低真空模式,現(xiàn)在的最大樣品倉壓力為 500 Pa,可以對要求最嚴(yán)苛的絕緣體進(jìn)行成像。

通過這些優(yōu)勢(包括復(fù)合末級透鏡、高級探測和靈活樣品處理),Apreo 可提供出色的性能和多功能性,幫助您應(yīng)對未來的研究難題。

  • 獨(dú)有的復(fù)合末級透鏡可在任何樣品(甚至在傾斜時貌起伏大)上提供優(yōu)異的分辨率(1 kV 電壓下為 1.0 nm),而無需進(jìn)行電子束減速。
  • 作用極大的背散射探測始終可保證良好的材料對比度,即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進(jìn)行 TV 速率成像時也不例外。
  • 無比靈活的探測器可將各個探測器分割提供的信息相結(jié)合,讓用戶能夠獲得至關(guān)重要的對比或信號強(qiáng)度。
  • 各種各樣的電荷緩解策略,包括倉室壓力最高為 500 Pa 的低真空模式,可實現(xiàn)任何樣品的成像。
  • 卓越的分析平臺提供高電子束電流,而且束斑很小。倉室支持三個 EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對分析而優(yōu)化的低真空系統(tǒng)。
  • 樣品處理和導(dǎo)航極容易,具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。

掃描電鏡廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。

儀器性能和維護(hù)對于實驗室的運(yùn)行來說至關(guān)重要,禹重為您提供培訓(xùn)、儀器服務(wù)計劃或按需維修服務(wù),幫助您獲得準(zhǔn)確可靠的結(jié)果以及最長的儀器正常運(yùn)行時間。我們很清楚保持儀器的最優(yōu)性能對提高您的生產(chǎn)力極為重要,因此,我們定能在您需要時為您排憂解難。

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